Si 3-amino-5-mercapto-1,2 respire, 4-triazol, tanpri deplase pasyan an nan lè fre; an ka kontak po, wete rad ki kontamine yo epi lave po a byen avèk dlo savon ak dlo. Si ou santi ou alèz, chèche konsèy medikal; si ou gen je klè kontak, separe po je yo, rense l avèk dlo k ap koule oswa saline nòmal, epi chèche konsèy medikal imedyatman; si vale, gagari imedyatman, pa pwovoke vomisman, epi chèche konsèy medikal imedyatman.

Li itilize pou prepare yon solisyon netwayaj fotorezist

Nan pwosesis la ki ap dirije komen ak semi-conducteurs fabrikasyon, se mask la nan photoresist ki te fòme sou sifas la nan kèk materyèl, epi li se modèl la transfere apre ekspoze. Apre yo fin jwenn modèl yo mande yo, fotorizist rezidyèl la bezwen yo dwe dezabiye anvan pwosesis kap vini an. Nan pwosesis sa a, li oblije konplètman retire fotorizist a san yo pa korode nenpòt ki substra. Koulye a, se solisyon netwayaj photoresist sitou ki konpoze de sòlvan òganik polè, fò alkali ak / oswa dlo, elatriye ka fotoresist la sou semiconductor wafer la pa plonje chip la semi-conducteurs nan likid la netwaye oswa lave chip la semi-conducteurs ak likid la netwaye .

Yon nouvo kalite solisyon netwayaj fotorezist te devlope, ki se yon detèjan ki pa akeuz grave grave. Li gen ladan: alkòl amine, 3-amino-5-mercapto-1,2,4-triazol ak kosolvent. Sa a jan de solisyon netwayaj fotorezist ka itilize yo retire fotorezist nan ki ap dirije ak semi-conducteurs. An menm tan an, li pa gen okenn atak sou substra a, tankou aliminyòm metal. Kisa an plis, sistèm lan gen rezistans dlo fò ak elaji fenèt operasyon li yo. Li te gen yon pwospè aplikasyon bon nan jaden yo nan ki ap dirije ak semi-conducteurs netwayaj chip.